扫描热学显微镜

常州市胜球干燥工程有限公司为您提供扫描热学显微镜。扫描热学显微镜驱近系统的机械设计可使得经过几次驱近之后仍然能获得相同的检测区域。扫描位移大约为500nm，这个特点可以让您在几周内仍然能够研究相同的样品区域。
　　详情介绍
　　扫描热学显微镜技术指标：
　　样品尺寸40x40x10mm
　　扫描器3x3x1um ( ± 10%); 10x10x2um( ± 10%); 50x50x3 um ( ± 10%)
　　zui小扫描步长0.0004 nm; 0.0011 nm; 0.006 nm
　　扫描类型样品扫描式
　　spm头部afm
　　stm:
　　30pa - 50na, 4 p时的arms 噪音 (标准的前置放大器),
　　10pa - 5na, 1.5 p时的arms噪音 (低电流前置放大器)
　　剪切力
　　光学观察系统数值孔径 0.1
　　放大倍数58x to 578x
　　水平视野 5,1~ 0,51mm
　　控制系统spm 控制箱
　　振动隔离系统集成有被动隔离系统
　　如果需要也可用主动隔离系统
　　项目solver p47 优点
　　扫描热学显微镜操作模式：1.合理的操作模式：
　　a. 扩展电阻成像：这个模式在表征半导体的应用中非常有用，因为在该模式下，我们可以利用w2c 或tio涂层的硅悬臂来测得样品上某一点的导电率，然后和该点的表明形貌进行比较。
　　b. 粘附力模式：在扫描过程中，可以同时得到力-距离曲线和力的值。
　　c. 剪切力模式：可以用来实现snow系统。
　　d. skm对半导体表面成分分析十分有用。
　　e. rm和电压刻蚀：利用这两个模式可以在纳米尺度实现机械和电压表面修饰。
　　2.集成测量头
　　在一次扫描过程中，可以同时得到4种不同的信息。
　　扫描热学显微镜产品链接：
　　
　　

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